高純氨是電子工業(yè)中氮化膜的成膜氣體,已經(jīng)在半導(dǎo)體,液晶面板,氮化鎵系LED生產(chǎn)中得到廣泛應(yīng)用;在多晶硅太陽(yáng)能電池領(lǐng)域的高純氨的應(yīng)用也在不斷增加。針對(duì)NH3中的水份脫除工藝研究，對(duì)于氣態(tài)氨在脫水過(guò)程中出現(xiàn)的各種復(fù)雜問(wèn)題解決，確保設(shè)備長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行，純氨含水量小于1PPm以下。 
關(guān)鍵詞：高純氨；脫水；問(wèn)題解決; 穩(wěn)定運(yùn)行; 
氨氣在常溫常壓下為具有特殊刺激性惡臭的無(wú)色有毒氣體，比空氣輕。氨在常溫下穩(wěn)定，但是在高溫分解成氫和氮。一般在一個(gè)大氣壓下450~500℃時(shí)容易分解成氫氮混合氣。在空氣中可燃，但一般難以著火，如果連續(xù)接觸火源就燃燒，有時(shí)也能引起爆炸。氨呈堿性，具有強(qiáng)腐蝕性。氨氣用途廣泛包括氮肥、銨鹽硝酸、尿素丙烯酰胺、氫氰酸、無(wú)機(jī)試劑、藥品、染料、金屬表面氮化、制冷劑、半導(dǎo)體用氣體、氧化、氮化膜、化學(xué)氣相淀積、標(biāo)準(zhǔn)氣等。 
目前工業(yè)制取液氨的方式主要是利用氫和氮在高溫高壓時(shí)在催化劑的作用下合成得到的。其粗氣中的組成雜質(zhì)主要含有微量硫、水份、一氧化碳、氮?dú)狻⒀鯕狻㈣F雜質(zhì)及其它機(jī)械雜質(zhì)和油等雜質(zhì)。液氨中含有硫可通過(guò)脫硫裝置脫除，含有的油份可通過(guò)活性碳吸附，含有的機(jī)械雜質(zhì)可通過(guò)精密過(guò)濾裝置過(guò)濾，氨中含有的雜質(zhì)氣體可以通過(guò)萃取精餾工藝解決。氨中的水份在氨氣的雜質(zhì)中占有的比重較大，在實(shí)際應(yīng)用解決過(guò)程中遇到的問(wèn)題也較多，特別是氨氣最終的脫水深度及脫水過(guò)程中產(chǎn)品氣露點(diǎn)穩(wěn)定性是整個(gè)工藝脫水過(guò)程中克服的難點(diǎn)。隨著電子工業(yè)的發(fā)展，對(duì)NH3純度要求及雜質(zhì)含量要求極高。鑒于高純氨氣良好的應(yīng)用前景，進(jìn)一步開(kāi)展NH3純度的技術(shù)研究，提高產(chǎn)品氣的純度是十分必要的。